Si(シリコン)とSiC(炭化ケイ素)のパワー半導体の違い:物性・耐圧・損失・用途を比較
SiCは、シリコンの約3倍のバンドギャップと約10倍の絶縁破壊電界をもつワイドバンドギャップ半導体です。同じ耐圧ならドリフト層を薄く、不純物の濃度を高くできるので、オン抵抗を大きく下げられ、高い耐圧でもMOSFETやショットキーバリアダイオードのような速い素子を使えます。一方、シリコンはウエハが安く大口径で、製造技術も成熟しているため、多くの用途で今も主力です。
| 項目 | Si(シリコン) | SiC(炭化ケイ素) |
|---|---|---|
| バンドギャップ | 約1.12 eV | 約3.26 eV(4H-SiC) |
| 絶縁破壊電界 | 約0.3 MV/cm | 約3 MV/cm(シリコンの約10倍) |
| 熱伝導率 | 約1.5 W/(cm·K) | 高い(シリコンの約3倍) |
| 室温の真性キャリア密度 | 約1×10¹⁰ cm⁻³ | 非常に小さい(10⁻⁹ cm⁻³程度)。高温でも不純物で決めた性質が保たれやすい |
| 高い耐圧で使う主な素子 | IGBT。低い耐圧ではパワーMOSFETやスーパージャンクションMOSFET | MOSFETとショットキーバリアダイオード。高い耐圧でも、少数キャリアを使わないユニポーラ素子を使える |
| スイッチング損失 | IGBTは、ターンオフ時のテール電流で損失が増え、周波数を上げにくい | テール電流がなく、ダイオードの逆回復もほとんどないので、損失が小さく高い周波数で動かせる |
| 代表的な耐圧 | 数十Vから数kVまで幅広い(高い耐圧はIGBT) | 650 Vから3.3 kV程度が中心 |
| 高温での動作 | 接合温度は一般に150〜175 ℃程度まで | 材料としては高温に強い。実際の上限は、パッケージや接合材、ゲート酸化膜の信頼性で決まることが多い |
| ウエハとコスト | 300 mmまでの大口径のウエハが安く手に入り、製造技術も成熟している | 主に150 mmで、200 mmへの移行が進んでいる。結晶の成長が難しく、ウエハもチップも高価 |
| 主な課題 | 高い耐圧や高い周波数では、材料の物性の限界に近づいている | ゲート酸化膜との界面の品質と信頼性、結晶欠陥によるボディダイオードの劣化、速いスイッチングによるノイズ |
| 主な用途 | 家電やパソコンの電源、産業用インバータ、車載の多くの電源回路 | 電気自動車の駆動用インバータ、車載充電器、急速充電器、太陽光発電のインバータ、鉄道 |
数値は代表的な目安で、世代や製品によって異なります。