什麼是FZ法(浮動區熔法)
加熱使多晶矽棒的一部分熔融,並移動該熔融區帶而形成單晶的方法。由於不使用坩堝,氧含量低,適合高電阻率晶圓。
日文名稱: FZ法(フローティングゾーン法)
「FZ法(浮動區熔法)」出現在1領域的1道練習題中(矽晶圓等)。
這個名詞所屬的領域: 矽晶圓
加熱使多晶矽棒的一部分熔融,並移動該熔融區帶而形成單晶的方法。由於不使用坩堝,氧含量低,適合高電阻率晶圓。
日文名稱: FZ法(フローティングゾーン法)
「FZ法(浮動區熔法)」出現在1領域的1道練習題中(矽晶圓等)。
這個名詞所屬的領域: 矽晶圓
FZ法是以高頻感應加熱將多晶矽棒的一部分熔成帶狀,再移動該熔融區使其單晶化的方法。
以FZ法(浮動區熔法)製作的矽單晶,下列哪一項特徵是正確的?IGBT CZ法(柴可拉斯基法) 西門子法 吸附雜質技術(Gettering) 氧析出物(BMD) 偏析係數 晶格滑移 晶棒 晶圓缺口(Notch) 晶體方向