微影

將帶有微細圖案的模具(mold)壓在光阻上,藉此轉印圖案的技術稱為什麼?

  1. A電子束微影
  2. BEUV曝光
  3. C奈米壓印微影
查看答案與解析

正確答案:C. 奈米壓印微影

奈米壓印微影是將帶有凹凸圖案的模具(模板)壓在晶圓上液態的光阻上,以紫外線使其固化後再脫模,藉此複製形狀的技術。它沒有光繞射的極限,可轉印10 nm級的圖案,且不需要昂貴的光學系統,因此能壓低機台的成本與用電量。佳能(Canon)開發了量產機台,並推動其在3D NAND等產品的實用化,但缺陷的抑制與疊對仍是課題。

練習這個領域 前往領域頁面

微影的其他題目

  1. 主要用來描繪光罩(倍縮光罩)圖案的設備是下列何者?
  2. 在光罩上方隔著一定間隔所張設的薄膜(護膜,pellicle),其作用是下列何者?
  3. 塗在光阻下方的抗反射膜(BARC)的主要目的是下列何者?
  4. 作為次世代EUV曝光機所開發的「High-NA EUV」,其特徵為下列何者?
  5. 下列何者是表示微細光阻圖案側面所產生之奈米等級凹凸的指標?

這個領域的比較