關於化學放大型光阻的特徵，下列何者正確？

正確答案：C. 曝光產生的酸，在曝光後烘烤（PEB）時作為觸媒作用，以較少的曝光量推進反應

在化學放大型光阻中，曝光時光酸產生劑會產生酸，在曝光後加熱（PEB，約90～130 ℃）期間，這個酸會作為觸媒，重複數十到數百次地使樹脂的保護基脫離。一個光子即可推進許多反應，因此靈敏度非常高，對於光源較弱的KrF、ArF與EUV來說是必要的。它於1980年代在IBM開發。另一方面，酸若擴散過度，影像會變模糊，所以PEB的溫度與時間要嚴格管控。