先進電晶體(FinFET與GAA)

單晶3D整合比貼合分別製作之晶片的3D封裝,能以高得多的密度連接層間,其主要原因下列何者正確?

  1. A上下層以焊料凸塊連接
  2. B層間以光配線連接
  3. C上層直接製作在下層之上,並以微影對位,因此能以與一般配線導孔相當的尺寸連接
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正確答案:C. 上層直接製作在下層之上,並以微影對位,因此能以與一般配線導孔相當的尺寸連接

貼合晶片或晶圓的方式,連接密度由貼合的對位精度與連接部大小決定。單晶3D整合是在第1層上形成或貼上薄半導體層,再以微影對位製作第2層電晶體,因此層間能以與配線導孔相當的精細度連接。相對地,為了不損傷下層,上層必須在大約500 ℃以下製作。

  • A. 焊料凸塊間距大,不適合高密度連接。
  • B. 層間以一般的金屬導孔連接。
  • C. 正確。原因在於能以微影的精度對位。
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