プロセス材料(ガス・薬液)

常温で液体の原料(TEOSなど)を、CVD装置にガスとして供給する方法として正しいものはどれか。

  1. Aキャリアガスを液体に通して蒸気を運ぶ(バブリング)か、液体を気化器で気化して供給する
  2. B液体を固めて粉にして入れる
  3. C液体をそのまま反応炉に注ぐ
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正解：A. キャリアガスを液体に通して蒸気を運ぶ(バブリング)か、液体を気化器で気化して供給する

液体原料は、温度を管理した容器にキャリアガスを吹き込んで蒸気を運ぶバブリングや、液体の流量を測って気化器で一気に気化させる方法で、ガスとして反応炉へ送ります。後者の方が供給量を精密に制御しやすくなります。

  • A. 正しい。バブリングや気化器で気体にして供給します。
  • B. 粉にして入れる方法は一般的ではありません。
  • C. 液体のまま注ぐと均一な成膜ができません。
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