공정 재료(가스와 케미칼)
실란과 함께 CVD로 실리콘 산화막이나 산질화막을 만들 때 산화제로 쓰이기도 하는 가스는 무엇입니까?
- A아르곤(Ar)
- B헬륨(He)
- C아산화질소(N2O)
정답과 해설 보기
정답: C. 아산화질소(N2O)
아산화질소(N2O)는 플라즈마 CVD에서 실란과 반응시켜 실리콘 산화막을 만드는 산화제로 쓰이며, 300~400 ℃ 정도의 저온에서 성막할 수 있습니다. 산소보다 온화하게 반응하므로 기상에서 입자가 생기기 어렵고, 조건에 따라서는 질소를 포함한 산질화막(SiON)도 만들 수 있습니다. 산질화막은 굴절률을 조정할 수 있어 노광의 반사 방지막으로도 쓰입니다. 아르곤과 헬륨은 불활성 가스입니다.
- A. 아르곤은 불활성이며 산화제가 되지 않습니다.
- B. 헬륨은 불활성이며 산화제가 되지 않습니다.
- C. 맞습니다. 실란과 조합하는 산화제로 쓰입니다.