製程材料（氣體與藥液）
與矽烷一起以CVD製作矽氧化膜或氮氧化膜時，有時會用作氧化劑的氣體為下列何者？
- A氬（Ar）
- B氦（He）
- C一氧化二氮（N2O）
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正確答案：C. 一氧化二氮（N2O）
一氧化二氮（N2O）在電漿CVD中與矽烷反應，用作製作矽氧化膜的氧化劑，可在300～400 ℃左右的低溫成膜。它的反應比氧氣溫和，因此氣相中不易產生粒子，視條件也能製作摻入氮的氮氧化膜（SiON）。氮氧化膜可以調整折射率，因此也用作曝光的抗反射膜。氬或氦是惰性氣體。
- A. 氬是惰性氣體，不會成為氧化劑。
- B. 氦是惰性氣體，不會成為氧化劑。
- C. 正確。用作與矽烷搭配的氧化劑。