半導体製造でいう不純物の「拡散」の説明として正しいものはどれか。

正解：C. 不純物の原子が、濃度の高いところから低いところへ熱によって広がっていく現象

拡散は、原子の熱運動によって、濃度の高い領域から低い領域へ不純物が広がっていく現象です。高温ほど速く進みます。かつてはこの現象を使って表面から不純物を導入していましたが、現在は多くの場合、イオン注入で導入した後の熱処理で拡散が起こります。

• A. 電界で加速して打ち込むのはイオン注入です。
• B. 洗い流すのは洗浄で、拡散ではありません。
• C. 正しい。熱によって高濃度から低濃度へ広がる現象です。