酸化・拡散
シリコンの熱酸化膜の代表的な使われ方として正しいものはどれか。
- A配線の導体
- Bゲート絶縁膜や素子間の分離、不純物を入れる場所を決めるマスク
- C光を出す発光層
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正解：B. ゲート絶縁膜や素子間の分離、不純物を入れる場所を決めるマスク
熱酸化でつくったSiO2は絶縁性が高く、シリコンとの界面の品質もよいため、MOSFETのゲート絶縁膜、素子と素子を電気的に分ける分離、イオン注入や拡散のマスクなどに使われてきました。
- A. SiO2は絶縁体なので配線の導体には使えません。
- B. 正しい。絶縁膜や分離、マスクに使われます。
- C. SiO2は間接遷移型でもなく絶縁体で、発光層には使いません。