エッチング

GaNのドライエッチングに一般的に使われるガスはどれか。

  1. A塩素系ガス(Cl2、BCl3など)
  2. B酸素だけ
  3. C水蒸気
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正解：A. 塩素系ガス(Cl2、BCl3など)

GaNは化学的に安定でエッチングしにくい材料ですが、塩素系のガスのプラズマを使うと、揮発性の塩化物にして除去できます。ICPなどの高密度プラズマ装置で、LEDやパワーデバイスのメサ構造などを加工します。

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