ALDで成膜される代表的な材料の例として正しいものはどれか。

正解：C. High-k膜の酸化ハフニウムや窒化チタンなど

ALDは、原子層単位で膜厚を制御でき、段差被覆性に優れるため、High-kゲート絶縁膜の酸化ハフニウム、メタルゲートやバリア層の窒化チタン、DRAMキャパシタの誘電体膜など、薄く均一な膜が必要な用途で使われています。