Thermische oxidatie in een atmosfeer met waterdamp. Groeit sneller dan droge oxidatie en wordt gebruikt voor dikke oxidelagen.
Japanse benaming: ウェット酸化
“Natte oxidatie” komt voor in 4 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. Oxidatie en diffusie.
Vakgebied: Oxidatie en diffusie
Antwoord: B. Natte oxidatie laat de oxidefilm sneller groeien
Bij natte oxidatie met waterdamp is de oplosbaarheid van het oxidatiemiddel H2O in SiO2 honderden keren hoger dan die van O2, zodat de groeisnelheid enkele tot ongeveer 10 keer hoger is dan bij droge oxidatie. Bij 1000 °C en 1 uur is dat bijvoorbeeld ongeveer 70 nm droog en ongeveer 400 nm nat. Natte oxidatie is geschikt voor dikke films voor elementisolatie en maskers. Droge oxidatie is langzaam, maar geeft een dichte film van goede kwaliteit met weinig grensvlaktoestanden en een goed beheersbare dikte, en is daarom gebruikt voor dunne gate-oxiden.
Bij natte oxidatie met waterdamp is de oplosbaarheid van het oxidatiemiddel H2O in SiO2 honderden keren hoger dan die van O2, zodat de groeisnelheid enkele tot ongeveer 10 keer hoger is dan bij droge oxidatie.
Welke vergelijking van droge oxidatie (O2) en natte oxidati…Omdat dikkere oxiden meer tijd kosten, wordt versneld met hoge temperatuur, natte oxidatie en hoge druk.
Welke relatie tussen oxidedikte en oxidatietijd is juist wa…De bij natte oxidatie in 1 uur verkregen dikte verschilt bijvoorbeeld sterk: ongeveer 200 nm bij 900 °C en ongeveer 700 nm bij 1100 °C.
Wat gebeurt er met de dikte van de oxidefilm die in dezelfd…Bij natte oxidatie wordt waterdamp gebruikt en vindt de reactie Si + 2H2O → SiO2 + 2H2 plaats; een deel van de ontstane waterstof blijft in de film achter, zodat natte films iets minder dicht zijn.
Welke chemische reactie vindt plaats bij droge thermische o…Thermische oxidatie Droge oxidatie Oplosbaarheid (solid solubility) Grensvlaktoestanden (interface traps) Deal-Grove-model Drive-in Forming-gasanneal LOCOS Mobiele ionen Oxidatiegestimuleerde diffusie (OED)