Nederlands
Menu

Oxidatie en diffusie

Welke chemische reactie vindt plaats bij droge thermische oxidatie van silicium?

  1. ASi + O2 → SiO2
  2. BSi + N2 → SiN
  3. CSiO2 + H2 → Si + H2O
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Si + O2 → SiO2

Bij droge oxidatie reageren silicium en zuurstof bij hoge temperatuur tot siliciumdioxide (Si + O2 → SiO2). Bij natte oxidatie wordt waterdamp gebruikt en vindt de reactie Si + 2H2O → SiO2 + 2H2 plaats; een deel van de ontstane waterstof blijft in de film achter, zodat natte films iets minder dicht zijn. In beide gevallen diffundeert het oxidatiemiddel door de film en reageert aan het grensvlak, waarbij de film groeit terwijl silicium wordt verbruikt.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Oxidatie en diffusie

  1. Welk temperatuurbereik komt het dichtst bij het gangbare bereik voor thermische oxidatie van silicium?
  2. Welke uitleg over 'diffusie' van onzuiverheden in de halfgeleiderproductie is juist?
  3. Welk gangbaar gebruik van thermische oxidefilm van silicium is juist?
  4. Welke eenheid van de diffusiecoëfficiënt D is juist?
  5. Welke inhoud van de eerste wet van Fick is juist? (J: diffusieflux, D: diffusiecoëfficiënt, C: concentratie, x: positie)