Afkorting van tetraethoxysilaan. Vloeibare organosiliciumverbinding die veel wordt gebruikt als grondstof voor CVD van siliciumoxide. Levert een oxidelaag met goede stapbedekking.
Japanse benaming: TEOS
“TEOS” komt voor in 3 oefenvragen uit 2 onderwerpen, bijv. Laagafzetting (CVD, PVD), Procesmaterialen (gassen, chemicaliën).
Vakgebied: Laagafzetting (CVD, PVD)
Antwoord: A. Draaggas door de vloeistof leiden om de damp mee te voeren (bubbelen) of de vloeistof in een verdamper verdampen en toevoeren
Vloeibare grondstoffen worden als gas naar de reactor gestuurd door bubbelen, waarbij draaggas in een container op beheerste temperatuur wordt geblazen om de damp mee te voeren, of door de vloeistofstroom te meten en in een verdamper in één keer te verdampen. Bij bubbelen schommelt de toevoer gemakkelijk met veranderingen van de vloeistoftemperatuur, en de verdampermethode kan nauwkeuriger worden geregeld. TEOS is een vloeistof met een kookpunt van ca. 168 °C en de leidingen worden verwarmd om te voorkomen dat het weer vloeibaar wordt. Door de vloeistof er direct in te gieten kan geen uniforme laag worden gemaakt.
TEOS is een vloeistof met een kookpunt van ca.
Welke methode is juist om bij kamertemperatuur vloeibare gr…De stapdekking is ook goed, en het wordt gebruikt voor polysilicium, siliciumnitride en TEOS-oxide.
Welke uitspraak over lagedruk-CVD (LPCVD) is juist?TEOS (Si(OC2H5)4) is een organosiliciumverbinding die bij kamertemperatuur vloeibaar is en na verdamping als brongas voor CVD wordt gebruikt.
Welke vloeibare organosiliciumverbinding wordt veel gebruik…CVD Numerieke apertuur (NA) LPCVD (low-pressure CVD) Silaan (SiH4) Plasma ALD (atomic layer deposition) Elektrolytisch plateren (ECP) Elektrostatische chuck (ESC) Gebiedsselectieve depositie (area-selective deposition) HDP-CVD (high-density plasma CVD)