Nederlands
Menu

Laagafzetting (CVD, PVD)

Welke vloeibare organosiliciumverbinding wordt veel gebruikt als brongas voor CVD van siliciumoxide?

  1. AWolfraamhexafluoride (WF6)
  2. BTEOS (tetra-ethoxysilaan)
  3. CTrimethylgallium
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. TEOS (tetra-ethoxysilaan)

TEOS (Si(OC2H5)4) is een organosiliciumverbinding die bij kamertemperatuur vloeibaar is en na verdamping als brongas voor CVD wordt gebruikt. Ze is veiliger te hanteren dan het zelfontbrandende silaan en ontleedt gemakkelijk aan het oppervlak, waardoor ze goed om hoeken heen werkt en een oxidelaag met goede stapdekking oplevert. Er zijn veel varianten, zoals thermische CVD (circa 700 °C), plasma-CVD (circa 400 °C) en CVD bij atmosferische druk in combinatie met ozon, en TEOS wordt veel gebruikt voor tussenlaag-diëlektrica en spacers.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Laagafzetting (CVD, PVD)

  1. Welk gas wordt als brongas gebruikt bij CVD van wolfraam?
  2. Waarom wordt hoogdichtheids-plasma-CVD (HDP-CVD) gebruikt voor het opvullen van smalle sleuven met isolatiemateriaal?
  3. Welke toepassing van siliciumnitridelagen (Si3N4) is juist?
  4. Wat is het belangrijkste doel van het plaatsen van een magneet achter het target bij magnetronsputteren?
  5. Welke omstandigheden geven bij CVD een goede stapdekking (conformaliteit)?

Vergelijkingen bij dit onderwerp