CVD met een plasma van hoge dichtheid waarbij tijdens het afzetten tegelijk door ionensputteren de laag aan de ingang van sleuven wordt weggenomen. Is gebruikt om smalle sleuven met een isolatiefilm te vullen zonder holtes.
Japanse benaming: HDP-CVD(高密度プラズマCVD)
“HDP-CVD (high-density plasma CVD)” komt voor in 1 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. Laagafzetting (CVD, PVD).
Vakgebied: Laagafzetting (CVD, PVD)
Antwoord: A. Omdat tegelijk met de depositie door sputteren met ionen de laag bij de opening wordt afgebroken, zodat zonder voids kan worden gevuld
Bij het vullen van een smalle sleuf met gewone CVD slaat de laag dik neer op de hoeken van de opening, sluit de sleuf eerder af en blijft er een holte (void) achter. Bij HDP-CVD wordt tijdens de depositie in een plasma met hoge dichtheid van 10¹¹ cm⁻³ of meer de laag op de hoeken van de opening schuin weggesputterd met ionen, zoals argon, die door een substraatbias worden aangetrokken, zodat van onder naar boven wordt gevuld. Het is gebruikt voor het vullen van STI en tussen bedrading in de generaties van 0,25 tot 65 nm; voor nog smallere sleuven wordt onder meer vloeibare CVD gebruikt.
Bij HDP-CVD wordt tijdens de depositie in een plasma met hoge dichtheid van 10¹¹ cm⁻³ of meer de laag op de hoeken van de opening schuin weggesputterd met ionen, zoals argon, die door een substraatbias worden aangetrokken, zodat van onder naar boven wordt gevuld.
Waarom wordt hoogdichtheids-plasma-CVD (HDP-CVD) gebruikt v…Plasma CVD STI (shallow trench isolation) ALD (atomic layer deposition) Elektrolytisch plateren (ECP) Elektrostatische chuck (ESC) Gebiedsselectieve depositie (area-selective deposition) LPCVD (low-pressure CVD) Magnetronsputteren PECVD (plasma-enhanced CVD)