Wat is Gebiedsselectieve depositie (area-selective deposition)?

Techniek die een film alleen op bepaalde plekken laat groeien door gebruik te maken van verschillen in het onderliggende materiaal. Kan lithografie- en etsstappen besparen, dus wordt onderzocht en ingevoerd voor onder meer geavanceerde bedrading.

Japanse benaming: 領域選択成膜

“Gebiedsselectieve depositie (area-selective deposition)” komt voor in 1 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. Laagafzetting (CVD, PVD).

Vakgebied: Laagafzetting (CVD, PVD)

Nu oefenen: vragen over Gebiedsselectieve depositie (area-selective deposition)

Welke techniek laat een laag alleen op bepaalde plaatsen groeien door gebruik te maken van verschillen in oppervlaktemateriaal?

  1. ASputteren
  2. BDepositie over het gehele oppervlak
  3. CGebiedsselectieve depositie (area-selective deposition)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Gebiedsselectieve depositie (area-selective deposition)

Gebiedsselectieve depositie is een techniek waarbij een laag alleen op de benodigde plaatsen wordt gevormd door gebruik te maken van het verschil in reactiviteit van het onderliggende materiaal, bijvoorbeeld wel op metaal en niet op een isolator. Er bestaat ook een methode waarbij oppervlakken waarop niet mag worden afgezet, met een zelfgeordende monolaag (SAM) worden bedekt om reactie te voorkomen. Omdat lithografie- en etsstappen kunnen worden bespaard en er geen uitlijnfout is, wordt de toepassing op onder meer fijne bedrading onderzocht.

“Gebiedsselectieve depositie (area-selective deposition)” in de toelichting

Vragen met “Gebiedsselectieve depositie (area-selective deposition)” (1)

  1. Welke techniek laat een laag alleen op bepaalde plaatsen groeien door gebruik te maken van verschillen in oppervlaktemateriaal?

Verwante termen

ALD (atomic layer deposition) CVD Elektrolytisch plateren (ECP) Elektrostatische chuck (ESC) HDP-CVD (high-density plasma CVD) LPCVD (low-pressure CVD) Magnetronsputteren PECVD (plasma-enhanced CVD) Reactief sputteren Spincoaten

Naar de woordenlijst