Reinigingsmethode waarbij wafers één voor één worden verwerkt. Kruisbesmetting tussen wafers treedt moeilijk op en de condities zijn per wafer goed te regelen. De methode waarbij veel wafers tegelijk in een chemisch bad worden gedompeld heet batchreiniging.
Japanse benaming: 枚葉式洗浄
“Single-wafer-reiniging” komt voor in 2 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. CMP en reiniging.
Vakgebied: CMP en reiniging
Antwoord: C. Kruisbesmetting tussen wafers treedt moeilijk op en de procesomstandigheden zijn per wafer gemakkelijk te regelen
Bij single-wafer-reiniging wordt een draaiende wafer een voor een behandeld door chemicaliën uit een nozzle te spuiten, zodat verontreiniging moeilijk van andere wafers overgaat, temperatuur, debiet en tijd van de chemicaliën per wafer nauwkeurig kunnen worden geregeld en ook voor- en achterkant en rand apart kunnen worden gereinigd. Batchreiniging, waarbij veel wafers in een chemicaliënbad worden gedompeld, heeft een hoge verwerkingscapaciteit en een laag chemicaliënverbruik, maar kent het risico van kruisbesmetting. Bij geavanceerde processen neemt het aandeel single-wafer toe; grote fabrikanten zijn SCREEN en Tokyo Electron.
Antwoord: A. Verontreiniging die van een wafer is opgelost of afgevallen kan via de vloeistof naar andere wafers overgaan (kruisbesmetting)
Bij batchreiniging worden circa 50 wafers in hetzelfde bad behandeld, wat een hoge verwerkingscapaciteit geeft, maar verontreiniging van een wafer (metalen, deeltjes, resistresten) kan zich in de vloeistof verspreiden en aan andere wafers hechten. De frequentie van vervanging, circulatie en filtering en het beheer van de concentratie van de vloeistof zijn daarom belangrijk, en voor processen die gevoelig zijn voor verontreiniging of waarvoor de condities per wafer verschillen, wordt single-wafer-reiniging gebruikt.
Bij single-wafer-reiniging wordt een draaiende wafer een voor een behandeld door chemicaliën uit een nozzle te spuiten, zodat verontreiniging moeilijk van andere wafers overgaat, temperatuur, debiet en tijd van de chemicaliën per wafer nauwkeurig kunnen worden geregeld en ook voor- en achterkant en rand apart kunnen worden gereinigd.
Welk voordeel van een single-waferreinigingsapparaat dat wa…De frequentie van vervanging, circulatie en filtering en het beheer van de concentratie van de vloeistof zijn daarom belangrijk, en voor processen die gevoelig zijn voor verontreiniging of waarvoor de condities per wafer verschillen, wordt single-wafer-reiniging gebruikt.
Welke uitspraak over aandachtspunten bij batchreiniging, wa…Ceria (ceriumoxide) CMP Dishing Erosie (erosion) Megasonisch reinigen Natuurlijk oxide (native oxide) Padconditionering Patroonineenstorting (pattern collapse) RCA-reiniging SC-1 (APM)