Was ist Einzelwaferreinigung?

Reinigungsverfahren, das jeweils einen Wafer bearbeitet. Es minimiert Kreuzkontamination und erlaubt Steuerung pro Wafer. Das gleichzeitige Eintauchen vieler Wafer in ein Becken ist die Batch-Reinigung.

Japanische Bezeichnung: 枚葉式洗浄