Welke uitspraak over aandachtspunten bij batchreiniging, waarbij veel wafers in hetzelfde bad met reinigingsvloeistof worden gewassen, is juist?

Antwoord: A. Verontreiniging die van een wafer is opgelost of afgevallen kan via de vloeistof naar andere wafers overgaan (kruisbesmetting)

Bij batchreiniging worden circa 50 wafers in hetzelfde bad behandeld, wat een hoge verwerkingscapaciteit geeft, maar verontreiniging van een wafer (metalen, deeltjes, resistresten) kan zich in de vloeistof verspreiden en aan andere wafers hechten. De frequentie van vervanging, circulatie en filtering en het beheer van de concentratie van de vloeistof zijn daarom belangrijk, en voor processen die gevoelig zijn voor verontreiniging of waarvoor de condities per wafer verschillen, wordt single-wafer-reiniging gebruikt.