Welk voordeel van een single-waferreinigingsapparaat dat wafers een voor een behandelt is juist?

Antwoord: C. Kruisbesmetting tussen wafers treedt moeilijk op en de procesomstandigheden zijn per wafer gemakkelijk te regelen

Bij single-wafer-reiniging wordt een draaiende wafer een voor een behandeld door chemicaliën uit een nozzle te spuiten, zodat verontreiniging moeilijk van andere wafers overgaat, temperatuur, debiet en tijd van de chemicaliën per wafer nauwkeurig kunnen worden geregeld en ook voor- en achterkant en rand apart kunnen worden gereinigd. Batchreiniging, waarbij veel wafers in een chemicaliënbad worden gedompeld, heeft een hoge verwerkingscapaciteit en een laag chemicaliënverbruik, maar kent het risico van kruisbesmetting. Bij geavanceerde processen neemt het aandeel single-wafer toe; grote fabrikanten zijn SCREEN en Tokyo Electron.