Metrologie en analyse

Welke analysemethode detecteert het zwakke licht dat een defecte plek tijdens bedrijf uitzendt om de foutplek van een LSI te lokaliseren?

  1. AXRD
  2. BTXRF
  3. CEmissiemicroscopie (lichtemissieanalyse)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Emissiemicroscopie (lichtemissieanalyse)

Op plaatsen waar lekstroom loopt, en bij transistors waarin hot carriers ontstaan, wordt zeer zwak nabij-infrarood licht uitgezonden. Emissiemicroscopie detecteert dit licht met een zeer gevoelige camera en lokaliseert daarmee de foutplek op de werkende chip. Als de voorzijde door meerlaagse bedrading is afgeschermd, wordt gebruikgemaakt van de doorlaatbaarheid van silicium voor infrarood licht en wordt vanaf de gedunde achterzijde waargenomen. XRD onderzoekt kristallen en TXRF oppervlakteverontreiniging.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Metrologie en analyse

  1. Hoe heet het verschijnsel waarbij bij het meten met een CD-SEM van ArF-resistpatronen het patroon door de elektronenbestraling krimpt?
  2. Wat wordt op de wafer aangebracht om de overlay-afwijking te meten?
  3. Welke methode bepaalt de dikte en dichtheid van een dunne film uit de oscillaties in de reflectiviteit bij zeer ondiep invallende röntgenstraling?
  4. Welke methode wordt juist gebruikt om kromming (bow en warp) en vlakheid van wafers te meten?
  5. Welke methode beoordeelt of herhaalbaarheid en reproduceerbaarheid van een meetinstrument voldoende klein zijn ten opzichte van de spreiding van het te beheersen proces?

Vergelijkingen bij dit onderwerp