Metrologie en analyse

Welke methode bepaalt de dikte en dichtheid van een dunne film uit de oscillaties in de reflectiviteit bij zeer ondiep invallende röntgenstraling?

  1. ASIMS
  2. BRöntgenreflectiviteit (XRR)
  3. CVierpuntsmethode
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Röntgenreflectiviteit (XRR)

Bij XRR wordt de reflectiviteit van röntgenstraling die onder een ondiepe hoek invalt gemeten terwijl de hoek wordt gevarieerd. Omdat de aan het oppervlak en aan het grensvlak van de film gereflecteerde röntgenstraling interfereert, oscilleert de reflectiviteit; uit de periode volgt de laagdikte, uit de kritische hoek waarbij totale reflectie optreedt de dichtheid van de film en uit de demping van de oscillaties de grensvlakruwheid. Omdat de meting zonder aanname van optische constanten kan, is ze geschikt voor het beoordelen van ultradunne films van enkele nm. SIMS en de vierpuntsmethode meten andere grootheden.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Metrologie en analyse

  1. Welke methode wordt juist gebruikt om kromming (bow en warp) en vlakheid van wafers te meten?
  2. Welke methode beoordeelt of herhaalbaarheid en reproduceerbaarheid van een meetinstrument voldoende klein zijn ten opzichte van de spreiding van het te beheersen proces?
  3. Wat is de belangrijkste reden dat fijne patronen van enkele tientallen nm niet rechtstreeks met een optische microscoop kunnen worden waargenomen?
  4. Welke relatie wordt gebruikt om uit de verandering van de waferkromming voor en na laagafzetting de filmspanning te bepalen?
  5. SIMS meet de concentratie van onzuiverheidsatomen. Welke methode meet daarentegen de diepteverdeling van de elektrisch actieve dragerconcentratie?

Vergelijkingen bij dit onderwerp