Metrologie en analyse

Wat wordt op de wafer aangebracht om de overlay-afwijking te meten?

  1. ABondpads
  2. BNotch
  3. CSpeciale markeringen voor overlaymeting
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Speciale markeringen voor overlaymeting

Om de overlaynauwkeurigheid te meten worden onder meer in de scribe lines speciale markeringen gemaakt die patronen van de vorige en de huidige laag combineren. Met optische apparatuur wordt de afwijking tussen de middens van de twee patronen gemeten, of wordt de afwijking bepaald uit het verschil in gediffracteerd licht van de bovenste en onderste roosters. De resultaten worden als afwijking per positie op de wafer naar de belichtingsapparatuur gestuurd en gebruikt voor correctie bij de volgende lot. Bondpads en notch hebben een ander doel.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Metrologie en analyse

  1. Welke methode bepaalt de dikte en dichtheid van een dunne film uit de oscillaties in de reflectiviteit bij zeer ondiep invallende röntgenstraling?
  2. Welke methode wordt juist gebruikt om kromming (bow en warp) en vlakheid van wafers te meten?
  3. Welke methode beoordeelt of herhaalbaarheid en reproduceerbaarheid van een meetinstrument voldoende klein zijn ten opzichte van de spreiding van het te beheersen proces?
  4. Wat is de belangrijkste reden dat fijne patronen van enkele tientallen nm niet rechtstreeks met een optische microscoop kunnen worden waargenomen?
  5. Welke relatie wordt gebruikt om uit de verandering van de waferkromming voor en na laagafzetting de filmspanning te bepalen?

Vergelijkingen bij dit onderwerp