Metrologie en analyse

Hoe heet het verschijnsel waarbij bij het meten met een CD-SEM van ArF-resistpatronen het patroon door de elektronenbestraling krimpt?

  1. AShrinkage (krimp van de resist door elektronenbundel)
  2. BCharge-up
  3. CDrift
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Shrinkage (krimp van de resist door elektronenbundel)

ArF-resist is gevoelig voor elektronenbundels; bij elektronenbestraling voor de meting worden moleculen ontleed, neemt het volume af en krimpt het patroon. Omdat de waarde bij elke meting verandert, wordt de bestralingsdosis verlaagd of wordt de krimp vooraf bepaald en gecorrigeerd. Charge-up is het verschijnsel waarbij lading zich op een isolator ophoopt en het beeld vervormt, en drift is het verschijnsel waarbij beeld- of apparaatwaarden in de tijd verschuiven; beide zijn geen krimpverschijnselen.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Metrologie en analyse

  1. Wat wordt op de wafer aangebracht om de overlay-afwijking te meten?
  2. Welke methode bepaalt de dikte en dichtheid van een dunne film uit de oscillaties in de reflectiviteit bij zeer ondiep invallende röntgenstraling?
  3. Welke methode wordt juist gebruikt om kromming (bow en warp) en vlakheid van wafers te meten?
  4. Welke methode beoordeelt of herhaalbaarheid en reproduceerbaarheid van een meetinstrument voldoende klein zijn ten opzichte van de spreiding van het te beheersen proces?
  5. Wat is de belangrijkste reden dat fijne patronen van enkele tientallen nm niet rechtstreeks met een optische microscoop kunnen worden waargenomen?

Vergelijkingen bij dit onderwerp