Welke analysemethode onderzoekt de elementen en chemische bindingstoestand aan het oppervlak uit de energie van fotoelektronen die bij röntgenbestraling vrijkomen?

Antwoord: B. XPS (röntgenfotoëlektronspectroscopie)

XPS meet de kinetische energie van fotoelektronen die bij röntgenbestraling uit het oppervlak vrijkomen en onderzoekt aan de hand van de daaruit bepaalde bindingsenergie het soort element en de chemische bindingstoestand. Zelfs bij hetzelfde Si ligt de waarde voor elementair Si bij ongeveer 99 eV en voor SiO2 bij ongeveer 103 eV, zodat de mate van oxidatie te zien is. Omdat fotoelektronen alleen uit een diepte van enkele nm kunnen ontsnappen, is het geschikt voor de evaluatie van dunne films, grensvlakken en oppervlaktebehandelingen. AFM meet de vorm en de vierpuntsmethode de weerstand.