CMP en reiniging
Wat is het belangrijkste doel van het verdunnen van chemicaliën of het gebruik van functioneel water in recente reinigingsprocessen?
- AHet chemicaliënverbruik en de milieubelasting verminderen
- BDe reinigingskracht altijd versterken
- CDe kleur van de wafer veranderen
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: A. Het chemicaliënverbruik en de milieubelasting verminderen
Bij traditionele reiniging werden grote hoeveelheden geconcentreerde chemicaliën gebruikt, maar door chemicaliën enkele tientallen tot honderden malen te verdunnen en functioneel water zoals ozonwater, waterstofwater of geëlektrolyseerd water te gebruiken, wordt gewerkt aan het verkrijgen van het benodigde reinigingseffect met minder verbruik van chemicaliën en ultrazuiver water en minder afvalvloeistof. Omdat halfgeleiderfabrieken veel water en chemicaliën gebruiken, is dit naast kostenbesparing ook belangrijk voor het verminderen van de milieubelasting.