Fine membrane tendue au-dessus du photomasque à une distance fixe. Elle empêche les particules de se déposer directement sur le masque ; celles qui tombent sur la pellicule sont hors foyer et se transfèrent difficilement.
Nom japonais: ペリクル
« Pellicule » apparaît dans 2 questions d'entraînement réparties sur 2 thèmes, dont Lithographie, Matériaux de procédé (gaz et produits chimiques).
Domaine: Lithographie
Réponse : C. Empêcher les particules de se déposer directement sur le masque ; si elles se déposent sur la pellicule, elles sont hors foyer et peu transférées
Une particule déposée sur le masque serait transférée comme défaut dans tous les champs de tous les wafers exposés avec ce masque. La pellicule est un film transparent de moins de 1 µm d'épaisseur, tendu sur un cadre à environ 6 mm du masque ; les particules se déposant sur la pellicule sont hors foyer, donc floues, et peu transférées sur le wafer. Pour l'EUV, on développe des films ultraminces de quelques dizaines de nm (polysilicium, nanotubes de carbone, etc.), transmettant environ 90 % de la lumière EUV et résistant aux hautes températures.
La pellicule est un film transparent de moins de 1 µm d'épaisseur, tendu sur un cadre à environ 6 mm du masque ; les particules se déposant sur la pellicule sont hors foyer, donc floues, et peu transférées sur le wafer.
Quel est le rôle du film mince (pellicule) tendu à une cert…Le BARC est une couche antireflet placée sous la résine, la pellicule une membrane mince protégeant le masque.
En lithographie ArF à immersion, quel film appliqué sur la …Photomasque (réticule) Contact Lithographie à immersion Couche antireflet (BARC) EUV High-NA Fenêtre de procédé Laser excimère ArF Lithographie EUV Lithographie par nano-impression Masque à décalage de phase