Quel est le rôle du film mince (pellicule) tendu à une certaine distance au-dessus du photomasque ?

Réponse : C. Empêcher les particules de se déposer directement sur le masque ; si elles se déposent sur la pellicule, elles sont hors foyer et peu transférées

Une particule déposée sur le masque serait transférée comme défaut dans tous les champs de tous les wafers exposés avec ce masque. La pellicule est un film transparent de moins de 1 µm d'épaisseur, tendu sur un cadre à environ 6 mm du masque ; les particules se déposant sur la pellicule sont hors foyer, donc floues, et peu transférées sur le wafer. Pour l'EUV, on développe des films ultraminces de quelques dizaines de nm (polysilicium, nanotubes de carbone, etc.), transmettant environ 90 % de la lumière EUV et résistant aux hautes températures.