Photomasque qui décale la phase de la lumière traversant des ouvertures voisines et exploite les interférences pour améliorer le contraste et la résolution de l'image.
Nom japonais: 位相シフトマスク
« Masque à décalage de phase » apparaît dans 1 questions d'entraînement réparties sur 1 thèmes, dont Lithographie.
Domaine: Lithographie
Réponse : A. Modifier la phase de la lumière traversant des ouvertures voisines et exploiter les interférences pour améliorer la résolution et le contraste
Un masque à décalage de phase décale de 180° la phase de la lumière traversant une partie du masque, de sorte qu'aux frontières entre les lumières issues de motifs voisins, les amplitudes s'annulent ; les zones sombres sont plus sombres et le contraste aux bords des motifs augmente. Il en existe deux types : le type Levenson, qui inverse alternativement la phase des motifs voisins, et le type atténué (halftone), dont la partie opaque est un film déphaseur laissant passer un peu de lumière (MoSi, etc.) ; ce dernier est largement utilisé en lithographie ArF.
Un masque à décalage de phase décale de 180° la phase de la lumière traversant une partie du masque, de sorte qu'aux frontières entre les lumières issues de motifs voisins, les amplitudes s'annulent ; les zones sombres sont plus sombres et le contraste aux bords des motifs augmente.
Quel est l'objectif d'un masque à décalage de phase ?Couche antireflet (BARC) EUV High-NA Fenêtre de procédé Laser excimère ArF Lithographie à immersion Lithographie EUV Lithographie par nano-impression Multi-patterning OPC (correction optique de proximité) Ouverture numérique (NA)