Qu'est-ce que EUV High-NA ?

Équipement d'exposition EUV de nouvelle génération dont l'ouverture numérique (NA) de l'optique de projection passe de 0,33 à 0,55 pour améliorer la résolution.

Nom japonais: High-NA EUV

Domaine: Lithographie

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Termes associés

Couche antireflet (BARC) Fenêtre de procédé Laser excimère ArF Lithographie à immersion Lithographie EUV Lithographie par nano-impression Masque à décalage de phase Multi-patterning OPC (correction optique de proximité) Ouverture numérique (NA)

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