Oxyde de grille dans lequel de l'azote a été introduit. Il limite la pénétration du bore depuis l'électrode de grille et augmente légèrement la permittivité ; utilisé comme isolant de grille avant l'introduction des films high-k.
Nom japonais: 酸窒化膜(SiON)
« Oxynitrure (SiON) » apparaît dans 4 questions d'entraînement réparties sur 2 thèmes, dont Oxydation et diffusion, Matériaux de procédé (gaz et produits chimiques).
Domaine: Oxydation et diffusion
Réponse : A. Limiter la pénétration du bore depuis l’électrode de grille et améliorer la fiabilité
Le bore contenu dans une grille en polysilicium p+ traverse pendant les traitements thermiques l’oxyde de grille mince, d’environ 2 nm, et pénètre dans le canal, ce qui fait varier la tension de seuil. L’introduction d’azote freine la diffusion du bore et élève la permittivité relative de 3.9 à environ 5 à 6 ; à EOT égale, le film peut être physiquement plus épais et les fuites diminuent. La fiabilité, notamment la résistance aux porteurs chauds, s’améliore aussi ; ce procédé était standard dans les générations antérieures au high-k.
Réponse : C. Le protoxyde d'azote (N2O)
Le protoxyde d'azote (N2O) est utilisé comme oxydant réagissant avec le silane en CVD plasma pour former de l'oxyde de silicium, avec un dépôt à basse température d'environ 300 à 400 ℃. Réagissant plus doucement que l'oxygène, il forme moins de particules en phase gazeuse et, selon les conditions, permet aussi d'obtenir des films d'oxynitrure (SiON) incorporant de l'azote. L'indice de réfraction de l'oxynitrure étant ajustable, il sert aussi de couche antireflet en lithographie. L'argon et l'hélium sont des gaz inertes.
Réagissant plus doucement que l'oxygène, il forme moins de particules en phase gazeuse et, selon les conditions, permet aussi d'obtenir des films d'oxynitrure (SiON) incorporant de l'azote.
Quel gaz est parfois utilisé comme oxydant avec le silane p…Le SiON, enrichi en azote, atteint environ 5 à 6, le nitrure (Si3N4) environ 7 et l’oxyde d’hafnium, matériau high-k, environ 20 à 25.
Quelle valeur est la plus proche de la permittivité relativ…La nitruration plasma introduit près de la surface de l’oxyde, à une température relativement basse de quelques centaines de ℃, de l’azote actif produit par un plasma d’azote, pour former un oxynitrure (SiON) contenant environ 10 à 20% d’azote.
Comment s’appelle le traitement qui introduit à la surface …EOT (épaisseur d'oxyde équivalente) Plasma Tension de seuil Silane (SiH4) CVD Couche antireflet (BARC) Oxydation thermique Mobilité Recuit Bec d'oiseau (bird's beak)