Français
Menu

Oxydation et diffusion

Quel est le but principal de l’introduction d’azote dans l’oxyde de grille pour former un oxynitrure (SiON) ?

  1. ALimiter la pénétration du bore depuis l’électrode de grille et améliorer la fiabilité
  2. BRendre le film conducteur
  3. CAugmenter la vitesse de gravure
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : A. Limiter la pénétration du bore depuis l’électrode de grille et améliorer la fiabilité

Le bore contenu dans une grille en polysilicium p+ traverse pendant les traitements thermiques l’oxyde de grille mince, d’environ 2 nm, et pénètre dans le canal, ce qui fait varier la tension de seuil. L’introduction d’azote freine la diffusion du bore et élève la permittivité relative de 3.9 à environ 5 à 6 ; à EOT égale, le film peut être physiquement plus épais et les fuites diminuent. La fiabilité, notamment la résistance aux porteurs chauds, s’améliore aussi ; ce procédé était standard dans les générations antérieures au high-k.

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur Oxydation et diffusion

  1. Pourquoi l’oxyde thermique peut-il servir de masque contre les dopants lors d’une diffusion ?
  2. Comment s’appelle le traitement thermique sous atmosphère hydrogénée effectué pour réduire les états d’interface Si/SiO2 ?
  3. Quel est le but principal de l’ajout d’une petite quantité de gaz chloré, comme le chlorure d’hydrogène (HCl), lors de l’oxydation thermique ?
  4. Lors de l’oxydation thermique d’un silicium contenant du bore, quelle tendance suit la concentration de bore côté silicium près de l’interface ?
  5. Comment s’appelle le traitement thermique qui chauffe les plaquettes une par une à haute température, par exemple avec des lampes, pendant quelques secondes seulement ?

Comparatifs sur ce thème