Couche proche de la surface de la plaquette, pauvre en défauts tels que les précipités d'oxygène, obtenue par un traitement thermique qui fait diffuser l'oxygène vers l'extérieur. Les composants y sont formés, tandis que les précipités internes servent au getter.
Nom japonais: DZ(無欠陥層)
« DZ (zone dénudée) » apparaît dans 1 questions d'entraînement réparties sur 1 thèmes, dont Plaquettes de silicium.
Domaine: Plaquettes de silicium
Réponse : B. DZ (zone dénudée)
Un traitement thermique à plus de 1100 ℃ fait exodiffuser l'oxygène proche de la surface et forme en surface une couche sans précipités d'oxygène (DZ : Denuded Zone) de quelques dizaines de µm. Des traitements thermiques ultérieurs à basse et moyenne température forment des précipités en volume, qui constituent la couche de gettering. Les composants sont fabriqués dans la surface sans défauts, et la contamination métallique est piégée en volume. Des wafers où cette structure est obtenue par recuit sous hydrogène ou argon ou par traitement thermique rapide sont aussi utilisés récemment.
Un traitement thermique à plus de 1100 ℃ fait exodiffuser l'oxygène proche de la surface et forme en surface une couche sans précipités d'oxygène (DZ : Denuded Zone) de quelques dizaines de µm.
Un traitement thermique du wafer fait exodiffuser l'oxygène…Précipités d'oxygène (BMD) Getter (gettering) Recuit Coefficient de ségrégation Donneurs thermiques Encoche de plaquette (notch) Glissement (slip) Lingot Méthode CZ (Czochralski) Méthode FZ (zone flottante)