Was ist DZ (Denuded Zone, defektfreie Zone)?

Schicht nahe der Waferoberfläche mit wenigen Defekten wie Sauerstoffausscheidungen, erzeugt durch Ausdiffusion von Sauerstoff bei der Wärmebehandlung. Bauelemente entstehen in dieser Schicht, während Ausscheidungen tiefer im Inneren das Gettern übernehmen.

Japanische Bezeichnung: DZ(無欠陥層)

Fachgebiet: Siliziumwafer

Verwandte Begriffe

Czochralski-Verfahren (CZ-Verfahren) FZ-Verfahren (Zonenschmelzen) Gettern (Getterung) Ingot (Kristallblock) Kristallorientierung MCZ-Verfahren (CZ mit Magnetfeld) Monitorwafer Necking (Halsbildung) Sauerstoffausscheidungen (BMD) Segregationskoeffizient

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