Petite encoche sur le bord de la plaquette indiquant son orientation cristalline. Utilisée pour les plaquettes de 200 mm et plus ; auparavant, on utilisait un méplat (flat d'orientation).
Nom japonais: ウエハのノッチ
« Encoche de plaquette (notch) » apparaît dans 1 questions d'entraînement réparties sur 1 thèmes, dont Plaquettes de silicium.
Domaine: Plaquettes de silicium
Réponse : A. Indiquer la référence d'orientation cristalline
L'encoche est une entaille en V d'environ 1 mm de profondeur sur la périphérie du wafer, qui sert de repère d'orientation cristalline (par exemple la direction <110>). Les équipements détectent l'encoche pour orienter le wafer et former les motifs dans le bon sens par rapport à l'orientation cristalline, ce qui est important car la vitesse de gravure et la mobilité en dépendent. Jusqu'à 150 mm, on utilisait un méplat d'orientation (flat), portion rectiligne de la périphérie, remplacé par l'encoche pour réduire la perte de surface.
RIE (gravure ionique réactive) Orientation cristalline Mobilité Coefficient de ségrégation Donneurs thermiques DZ (zone dénudée) Getter (gettering) Glissement (slip) Lingot Méthode CZ (Czochralski)