Quelle méthode est utilisée pour mesurer la concentration d’oxygène interstitiel dans le silicium ?

Réponse : C. Absorption infrarouge (FTIR)

L’oxygène interstitiel du silicium absorbe l’infrarouge vers le nombre d’onde 1107 cm⁻¹ en raison de la vibration de la liaison Si-O-Si. La mesure de l’intensité de cette absorption par FTIR donne la concentration d’oxygène de façon non destructive. L’oxygène des plaquettes CZ favorise le gettering mais, en excès, provoque des défauts par précipitation ; sa concentration est donc contrôlée. La méthode sert aussi à mesurer le carbone substitutionnel (environ 605 cm⁻¹). La méthode des quatre pointes et l’EDX ne mesurent pas la concentration d’oxygène.