Nederlands
Menu

Metrologie en analyse

Welke methode wordt gebruikt om de concentratie interstitieel zuurstof in silicium te meten?

  1. AVierpuntsmethode
  2. BEDX
  3. CInfraroodabsorptie (FTIR)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Infraroodabsorptie (FTIR)

Interstitieel zuurstof in silicium absorbeert door de trilling van de Si-O-Si-binding infrarood licht met een golfgetal van ongeveer 1107 cm⁻¹. Door met FTIR de sterkte van die absorptie te meten kan de zuurstofconcentratie niet-destructief worden bepaald. Zuurstof in CZ-wafers is nuttig voor gettering, maar te veel ervan veroorzaakt defecten door precipitatie, dus wordt de concentratie beheerst. De methode wordt ook gebruikt voor het meten van substitutioneel koolstof (ongeveer 605 cm⁻¹). Met de vierpuntsmethode en EDX kan de zuurstofconcentratie niet worden gemeten.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Metrologie en analyse

  1. Welke methode meet contactloos de levensduur van ladingdragers in een wafer en beoordeelt zo onder meer metaalverontreiniging?
  2. Welke functie fotografeert bij inspectie gevonden defecten met SEM en classificeert automatisch het defecttype uit het beeld?
  3. Wat is het gangbare verschil tussen 'metrologie' en 'inspectie' in een halfgeleiderproductielijn?
  4. Wat is het belangrijkste doel van meten en inspecteren halverwege het proces in een productielijn?
  5. Wat is de belangrijkste reden dat bij metrologie in de productielijn vaak een deel wordt gemeten in plaats van alle wafers en alle punten?

Vergelijkingen bij dit onderwerp