Laagafzetting (CVD, PVD)

Welke techniek laat een laag alleen op bepaalde plaatsen groeien door gebruik te maken van verschillen in oppervlaktemateriaal?

  1. ASputteren
  2. BDepositie over het gehele oppervlak
  3. CGebiedsselectieve depositie (area-selective deposition)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Gebiedsselectieve depositie (area-selective deposition)

Gebiedsselectieve depositie is een techniek waarbij een laag alleen op de benodigde plaatsen wordt gevormd door gebruik te maken van het verschil in reactiviteit van het onderliggende materiaal, bijvoorbeeld wel op metaal en niet op een isolator. Er bestaat ook een methode waarbij oppervlakken waarop niet mag worden afgezet, met een zelfgeordende monolaag (SAM) worden bedekt om reactie te voorkomen. Omdat lithografie- en etsstappen kunnen worden bespaard en er geen uitlijnfout is, wordt de toepassing op onder meer fijne bedrading onderzocht.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Laagafzetting (CVD, PVD)

  1. Welke richtwaarde voor de dikte van dunne lagen in de halfgeleiderproductie is het meest passend?
  2. Wat is de juiste basismanier van opbouw in het productieproces van LSI?
  3. Wat is de belangrijkste reden dat veel depositieprocessen in een vacuümapparaat plaatsvinden?
  4. Welke depositiemethode is vooral gebruikt om aluminiumbedradingslagen te maken?
  5. Wat is de juiste betekenis van de sputteropbrengst (sputter yield) bij sputteren?

Vergelijkingen bij dit onderwerp