Oxidation und Diffusion
Lernen Sie anhand von Multiple-Choice-Fragen den Unterschied zwischen trockener und feuchter Oxidation, den Siliziumverbrauch bei der thermischen Oxidation und die Temperaturabhängigkeit von Diffusionskoeffizienten kennen.
Die Fragen zu diesem Thema folgen in Kürze.
Oxidation und Diffusion: Das Wichtigste
Wird Silizium in Sauerstoff oder Wasserdampf erhitzt, bildet sich auf seiner Oberfläche ein hochwertiger SiO2-Film. Dies nennt man thermische Oxidation; sie wird unter anderem für Gateisolatoren, die Isolation zwischen Bauelementen und Masken genutzt.
Bei der thermischen Diffusion werden Fremdatome bei hoher Temperatur durch atomare Diffusion in das Silizium eingebracht. Da die Diffusion stark von der Temperatur abhängt, ist eine sorgfältige Kontrolle von Temperatur und Zeit wichtig.