Was ist PECVD (plasmaunterstützte CVD)?

CVD, bei der Quellgase durch Plasma zersetzt werden, um Schichten abzuscheiden. Sie scheidet bei niedrigeren Temperaturen ab als thermische CVD und wird unter anderem für Isolierschichten in Verdrahtungsschritten verwendet.

Japanische Bezeichnung: PECVD(プラズマCVD)

Fachgebiet: Abscheidung (CVD und PVD)

Vergleiche mit diesem Begriff

CVD vs. PVD: Dünnschichtabscheidung im VergleichCVD und PVD im Tabellenvergleich: Prinzip, typische Materialien, Kantenbedeckung, Temperatur, Reinheit, Umgeb…
ALD vs. CVD: Atomlagenabscheidung im VergleichALD und CVD im Tabellenvergleich: Funktionsweise, Schichtdickenkontrolle, Konformität, Geschwindigkeit, Tempe…

Verwandte Begriffe

ALD (Atomlagenabscheidung) CVD (chemische Gasphasenabscheidung) Elektrostatischer Chuck Flächenselektive Abscheidung (Area-Selective Deposition) Galvanische Abscheidung (Electroplating) HDP-CVD (Hochdichteplasma-CVD) Kantenbedeckung (Step Coverage) LPCVD (Niederdruck-CVD) Magnetron-Sputtern Reaktives Sputtern

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