Was ist ALD (Atomlagenabscheidung)?

Atomic Layer Deposition. Ein Abscheideverfahren, das selbstlimitierende Oberflächenreaktionen von Precursor-Gasen wiederholt und so die Schichtdicke Atomlage für Atomlage steuert.

Japanische Bezeichnung: ALD

Fachgebiet: Abscheidung (CVD und PVD)

Vergleiche mit diesem Begriff

CVD vs. PVD: Dünnschichtabscheidung im VergleichCVD und PVD im Tabellenvergleich: Prinzip, typische Materialien, Kantenbedeckung, Temperatur, Reinheit, Umgeb…
ALD vs. CVD: Atomlagenabscheidung im VergleichALD und CVD im Tabellenvergleich: Funktionsweise, Schichtdickenkontrolle, Konformität, Geschwindigkeit, Tempe…

Verwandte Begriffe

CVD (chemische Gasphasenabscheidung) Elektrostatischer Chuck Flächenselektive Abscheidung (Area-Selective Deposition) Galvanische Abscheidung (Electroplating) HDP-CVD (Hochdichteplasma-CVD) Kantenbedeckung (Step Coverage) LPCVD (Niederdruck-CVD) Magnetron-Sputtern PECVD (plasmaunterstützte CVD) Reaktives Sputtern

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