Chemical Vapor Deposition. Ein Verfahren, bei dem durch chemische Reaktionen von Quellgasen dünne Schichten auf einem Wafer abgeschieden werden.
Japanische Bezeichnung: CVD
Fachgebiet: Abscheidung (CVD und PVD)
ALD (Atomlagenabscheidung) Elektrostatischer Chuck Flächenselektive Abscheidung (Area-Selective Deposition) Galvanische Abscheidung (Electroplating) HDP-CVD (Hochdichteplasma-CVD) Kantenbedeckung (Step Coverage) LPCVD (Niederdruck-CVD) Magnetron-Sputtern PECVD (plasmaunterstützte CVD) Reaktives Sputtern