Was ist Flächenselektive Abscheidung (Area-Selective Deposition)?

Wachstum einer Schicht nur an bestimmten Stellen, durch Ausnutzen von Unterschieden der darunterliegenden Materialien. Da sie Lithografie- und Ätzschritte einsparen kann, wird sie für fortschrittliche Verdrahtung erforscht und eingeführt.

Japanische Bezeichnung: 領域選択成膜

Fachgebiet: Abscheidung (CVD und PVD)

Verwandte Begriffe

ALD (Atomlagenabscheidung) CVD (chemische Gasphasenabscheidung) Elektrostatischer Chuck Galvanische Abscheidung (Electroplating) HDP-CVD (Hochdichteplasma-CVD) Kantenbedeckung (Step Coverage) LPCVD (Niederdruck-CVD) Magnetron-Sputtern PECVD (plasmaunterstützte CVD) Reaktives Sputtern

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