Was ist HDP-CVD (Hochdichteplasma-CVD)?

CVD mit hochdichtem Plasma, bei der abgeschieden wird, während Ionensputtern die Schicht an den Grabenöffnungen abträgt. Sie wurde genutzt, um schmale Gräben lunkerfrei mit Isolator zu füllen.

Japanische Bezeichnung: HDP-CVD(高密度プラズマCVD)

Fachgebiet: Abscheidung (CVD und PVD)

Verwandte Begriffe

ALD (Atomlagenabscheidung) CVD (chemische Gasphasenabscheidung) Elektrostatischer Chuck Flächenselektive Abscheidung (Area-Selective Deposition) Galvanische Abscheidung (Electroplating) Kantenbedeckung (Step Coverage) LPCVD (Niederdruck-CVD) Magnetron-Sputtern PECVD (plasmaunterstützte CVD) Reaktives Sputtern

Zurück zum Glossar