Was ist Immersionslithografie?

Belichtung, bei der der Raum zwischen Linse und Wafer mit Wasser gefüllt ist. Sie erlaubt eine numerische Apertur über 1, sodass ArF-Excimerlaser feinere Muster erzeugen können.

Japanische Bezeichnung: 液浸露光

Fachgebiet: Lithografie

Vergleiche mit diesem Begriff

Verwandte Begriffe

ArF-Excimerlaser Bodenseitige Antireflexschicht (BARC) Chemisch verstärkter Resist EUV-Lithografie Fotolack High-NA-EUV Linienkantenrauheit (LER) Mehrfachstrukturierung (Multiple Patterning) Nanoimprint-Lithografie Numerische Apertur (NA)

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