Was ist EUV-Lithografie?
Lithografie mit extrem ultraviolettem Licht der Wellenlänge 13,5 nm. Sie verwendet reflektive Optik und eine Vakuumumgebung.
Japanische Bezeichnung: EUV露光
Fachgebiet: Lithografie
Vergleiche mit diesem Begriff
Verwandte Begriffe
ArF-Excimerlaser Bodenseitige Antireflexschicht (BARC) Chemisch verstärkter Resist Fotolack High-NA-EUV Immersionslithografie Linienkantenrauheit (LER) Mehrfachstrukturierung (Multiple Patterning) Nanoimprint-Lithografie Numerische Apertur (NA)