Was ist Chemisch verstärkter Resist?

Resist, in dem bei der Belichtung erzeugte Säure beim Post-Exposure-Bake (PEB) eine Reaktionskette katalysiert. Er braucht wenig Belichtungsdosis und ist ab KrF weit verbreitet, reagiert aber empfindlich auf basische Verunreinigungen.

Japanische Bezeichnung: 化学増幅型レジスト

Fachgebiet: Lithografie