Was ist ArF-Excimerlaser?

Laser mit Argon und Fluor, der ultraviolettes Licht von 193 nm abstrahlt. Mit Immersion kombiniert ist die ArF-Immersionslithografie neben EUV ein Spitzenverfahren. Die 248-nm-Variante ist der KrF-Excimerlaser.

Japanische Bezeichnung: ArFエキシマレーザー

Fachgebiet: Lithografie

Verwandte Begriffe

Bodenseitige Antireflexschicht (BARC) Chemisch verstärkter Resist EUV-Lithografie Fotolack High-NA-EUV Immersionslithografie Linienkantenrauheit (LER) Mehrfachstrukturierung (Multiple Patterning) Nanoimprint-Lithografie Numerische Apertur (NA)

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